Renishaw 1000 Raman spektométer (Dr Veres Miklós)


reni

 

Mikro-Raman spektrométer anyagok összetételének, szennyeződéseinek és ezek eloszlásának roncsolásmentes meghatározására akár nagyon alacsony koncentrációban is.

Lézer fényforrások: 488 nm (2.54 eV) Ar-ion lézer

                                   785 nm (1.58 eV) dióda lézer

Fókuszált lézer nyalábátmérője: 1 µm

A spektrométer felbontása: 488 nm-0.9 cm-1, 785 nm-0.5 cm-1

Lézer sűrűség: 750 W/mm2 (785 nm)

                           1250 W/mm2 (488 nm)

 


Jobin Yvon Fluorolog FL3-22 Fotolumineszcencia spektrométer (Himics László)


 

fuorlog

 

Fotolumineszcencia spektrométer optikai emissziós spektrumok mérésére az ultraibolya, látható és infravörös tartományokban, az anyagok (szilárd és folyékony) optikai tulajdonságainak és elektronszerkezetének meghatározására.

Gerjesztő fényforrás: nagynyomású Xenon lámpa (450 W)

Gerjesztési tartomány: 240-600 nm

Detektorok: R928P fotoelektron-sokszorozó (UV-Vis), InGaAs fotodióda (IR)

Emissziós tartomány: 290-850 nm (UV-Vis), 800-1650 nm (IR)

A készülékben található kettős monokromátorok léptetőmotorral mechanikusan mozgatott diffrakciós rácsok (1200 vonal/mm), melyek lehetővé teszik, hogy a gerjesztő és emissziós oldalon viszonylag nagy hullámhossz-tartományban gerjesszünk, illetve detektáljunk. Mind a gerjesztési, mind az emissziós oldalon változtathatjuk a rés szélességét (1-10 nm) és a mintavételezési tartományt. A mérőrendszer feloldóképessége 1 nm, ami természetesen változik a méréseknél alkalmazott résszélességgel. A jó jel/zaj viszony elérése érdekében pedig megfelelően lehet választani az időállandót és a letapogatási sebességet.

A mérőberendezéssel 2D gerjesztési és emissziós, illetve 3D gerjesztési-emissziós spektrumokat egyaránt fel lehet venni. A készülék korrigálja a spektrumokat a gerjesztő fény intenzitás-eloszlására, az analizáló monokromátor átviteli függvényére és a detektor érzékenységére.

 


Lézer indukált plazma spektrométer (Laser Induced Breakdown Spectrometer-LIBS) (Rigó István)


Impulzusüzemű, nagy intenzitású lézerfény mintára való fókuszálásával bármilyen halmazállapotú minta lokálisan lebontható, és a minta felületén ill a belsejében az abláció termékeiből mikroplazma hozható létre. Ezen mikroplazma emissziós spektrumának vizsgálata is mennyiségi és minőségi analitikai kémiai információkat szolgáltat a mintáról.

Műszer: Quantel Q-smart (450)

Lézerforrás: Nd:YAG, (1064, 532, 355, 266 és 213 nm)

Impluzus időtartam: 6 ns

Ismétlési frekvencia: 20 Hz

Divergencia: 0.5 mrad

 


Mikrohullámú plazmával aktivált kémia gőzfázisú leválasztó berendezés
(MWPECVD: Microwave Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition)
(Dr. Himics László, Dr. Csíkvári Péter)


CWD


Felhasználási terület: Különböző fázisú szén összetételű rétegek és struktúrák kialakítása, ezen belül is elsősorban gyémánt fázisú vékonyrétegek és struktúrák szintetizálása

Kutatási területek:

  • Passzív rétegleválasztási technológiák: MEMS (Micro Electro Mechanical Structures)-, szenzorikai-, ill. 3D bevonatolási alkalmazások, szelektív területi leválasztás (SAD: Selective Area Deposition), passziváló bevonat nyomásmérő és áramlásmérő mikro gázszenzorokon, mikroturbina struktúra gyémántbevonata, SRP-tűk passzív és aktív gyémántbevonata, kvázi 3D-s tárgy gyémántréteggel történő bevonása.
  • Aktív rétegleválasztási technológiák: különböző adalékolási technikákkal aktív színcentrumok létrehozása gyémántstruktúrákban fotonikai-kvantumoptikai alkalmazásokhoz
     

Főbb paraméterek: max. mikrohullámú teljesítmény 3kW (névleges, hasznos terhelés: 1.5 kW); 4 csatornás input-gázrendszer: (H2, CH4, Ar, N2); max. mintahőmérséklet: ~ 900 °C; egyenáramú mintaelőfeszítés 0-300V tartományban (BEN: Bias Enhanced Nucleation technikához); max. mintaméret: ~ 2x2 cm; turbomolekuláris elszívással ellátott kamra, végvákuum: ~ 8*10-7 – 2*10-6 mbar;